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交互式集成电路拆解图

半导体与芯片产业链

从一颗集成电路出发,沿着材料、设备、制造、封装和应用把行业拆开。

这张图不是选股清单,而是行业阅读地图。鼠标指向芯片上的结构会发光,点击任一结构进入详情页,理解它是什么、为什么重要、由哪些材料和设备支撑、连接半导体产业链哪一段。
9个核心结构
3层上游/中游/下游
材料+设备双线拆解

芯片结构索引

每个结构都是一条产业链入口。先理解它是什么,再看材料、设备、公司和投资逻辑。

硅片 / 衬底

上游材料 → 晶圆制造

硅片是芯片制造的基底,所有晶体管、介质层和金属互连都在它上面一层层做出来。

电子级多晶硅 石英坩埚 掺杂元素

光刻材料

上游材料/设备 → 图形转移

光刻材料包括光刻胶、显影液、抗反射层和掩膜版,是把芯片设计图形转移到晶圆上的关键系统。

KrF/ArF 光刻胶 显影液 BARC

晶体管结构

制造核心 → 器件性能

晶体管是芯片最小的可控开关。源极、漏极、栅极和沟道共同决定电流开关能力。

硅/锗硅沟道 高 k 介质 金属栅

薄膜沉积

上游材料/设备 → 制造工艺

薄膜沉积是在晶圆上沉积绝缘、导电、阻挡或功能薄膜,是芯片一层层堆出来的基础。

硅烷 TEOS WF6

刻蚀

上游气体/设备 → 图形加工

刻蚀是把没有被光刻胶保护的材料去掉,让设计图形真正进入介质层、硅层或金属层。

含氟刻蚀气 含氯刻蚀气 BCl3

清洗化学品

上游湿化学品 → 良率控制

清洗化学品用于去除颗粒、金属离子、有机物、残胶和刻蚀残留,是良率管理的基础。

电子级硫酸 双氧水 氢氟酸

CMP 材料

上游材料/设备 → 平坦化

CMP 是化学机械抛光,用抛光液和抛光垫把晶圆表面磨平,为下一层工艺提供平坦基础。

抛光液 抛光垫 调节盘

金属互连

上游靶材/电镀液 → 互连层

金属互连是晶体管之间的导线系统,负责在芯片内部传递信号和电源。

铜靶 钽靶 铝靶

先进封装

封装材料/封测 → 下游应用

封装把裸 die 连接到外部系统,并提供保护、散热、供电和高速信号通道。

封装基板 环氧塑封料 底填胶