它在芯片里干什么
光刻胶在曝光后发生化学变化，显影后留下可保护或可去除的图形，后续刻蚀和注入按这个图形加工。
关键材料
KrF/ArF 光刻胶
显影液
BARC
掩膜版
掩膜版基板
关键设备
光刻机
涂胶显影设备
掩膜版检测设备
核心指标
分辨率
线宽粗糙度
缺陷密度
金属杂质
Fab 认证